产品展示

聚焦离子束FIB

电子光学

NICol非浸没式超高分辨率场发射扫描镜筒,配有:
• 高亮度肖特基场发射电子抢,用于提供稳定的高分辨率分析电流

• 60度双物镜透镜,支持倾斜的样品

• 全自动加热式光阑,可确保清洁和无接触式更换光阑孔

• 连续电子束电流控制和优化的光阑角度

• 电子枪安装和维护简单-自动烘烤,自动启动,无需机械合轴

• 双物镜透镜,结合电磁透镜和静电透镜

• 两级扫描偏转

• 双物镜透镜,结合电磁透镜和静电透镜

• 电子源寿命至少24个月

电子束分辨率

在好的工作距离下

• 30keV下 STEM 0.7nm

• 1keV 下 1.4nm 15keV下1nm

• 1keV下 电子束减速模式 1.2nm



聚焦离子束FIB

超高分辨成像并获取全面的样品信息:

创新的NICol电子镜筒为Scios 2 DualBeam 系统的高分辨率成像和检测功能奠定了基础。无论是在S丁EM模式下以30 keV来获取结构信息,还是在较低的能量下从样品表面获取无荷电信息,系统可在广泛的工作条件下提供出色的纳米级细节。系统独特的镜头内Thermo Scientific Trinity™检测技术可同时采集角度和能量选择性SE和BSE图像。无论是将样品竖直或倾斜放置进行观察,亦或者是观察样品截面,都可快速获取详细的纳米级信息。可选配的透镜下探测器和电子束减速模式可确保快速、 轻松地同时采集所高信号,以显示材料表面或截面中的较小特征。依托独特的NICol镜筒设计和全自动合轴功能,用户可获得快速、准确且可重复的结果。

帮助所有用户提高生产力:

Scios 2 DualBeam系统可帮助所有经验水平用户更快、更轻松地获得高质量、 可重复的结果。系统提供用户向导,使新手用户可以轻松、 快速地提高工作效率。此外,诸如 ”撤消” 和 ”重做” 之类的功能鼓励用户开展更多类型的实验。

真实环境条件的样品原位实验

Scios 2 DualBeam系统专为材料科学中具有挑战性的材料微观表征需求而设计,配备了全集成化、极快速MEMS热台µHeater可在更接近真实环境的工作条件下进行样品表征。110毫米样品台可倾斜至90°,优中心工作距离更大,确保了系统好的灵活性。 系统可选配低真空模式,可轻松兼容各种样昂类型和数据采集。同时,系统结合了扩展的沉积和蚀刻功能、 优化的样品灵活性和控制能力,成为通用的高性能FIB /SEM系统,所有这些都由赛默飞的专业应用和服务支持。

W-Mo-Cu样品的三维重建,结合了 BSE (绿色-蓝色)和EDS (桶色)三维数据,使用Scios 2 DualBeam系统、 AS&V4以及Avizo软件生成。

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