离子刻蚀机RIE-10NR
加工至ø220 mm（ø3“x 5，ø4”x 3，ø8”x 1）；
高选择性各向异性蚀刻满足严格的工艺要求全自动“一键式”操作；
自动压力控制，允许独立于气流干泵和系统布局的过程压力精确控制，便于维护；
于Windows的用户界面，丰富的配方和内置的数据记录功能，是一个可靠和持久的系统，全球安装了400多个系统。
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去层研磨镶嵌
加工至ø220 mm（ø3“x 5，ø4”x 3，ø8”x 1）；
高选择性各向异性蚀刻满足严格的工艺要求全自动“一键式”操作；
自动压力控制，允许独立于气流干泵和系统布局的过程压力精确控制，便于维护；
于Windows的用户界面，丰富的配方和内置的数据记录功能，是一个可靠和持久的系统，全球安装了400多个系统。
RIE-10NR是一种新型的低成本、高性能、全自动反应离子刻蚀系统，能够满足非腐蚀性气体化学苛刻的工艺要求。
计算机化触摸屏为工艺配方编程和存储提供了用户友好的界面。
该系统可以实现精确的侧壁轮廓控制和材料之间的高蚀刻选择性。
凭借其圆滑、紧凑的设计，RIE-10NR只需要很小的洁净室空间。
硅、二氧化硅、氮化硅、多晶硅、砷化镓、钼、铂、聚酰亚胺等材料的腐蚀失效分析中的选择性层腐蚀。
1、加工至ø220 mm（ø3“x 5，ø4”x 3，ø8”x 1）。
2、高选择性各向异性蚀刻满足严格的工艺要求全自动“一键式”操作。
3、自动压力控制，允许独立于气流干泵和系统布局的过程压力精确控制，便于维护。
4、于Windows的用户界面，丰富的配方和内置的数据记录功能，是一个可靠和持久的系统，全球安装了400多个系统。
基板 | 220 mm（ø3“x 5，ø4”x 3，ø8”x 1） |
负载 | 开放式 |
上下电极 | ø240 mm |
射频功率 | 可切换射频供电电极（阳极/阴极模式）为选项 |
气体管道 | 内部2条MFC控制的气体管道（最多6条） |
泵 | 干泵（500升/分钟） |
操作系统 | 触摸屏操作（可选择基于Windows的用户界面）、配方管理 |
端点检测 | 光学发射光谱（OES）作为一种选择 |
尺寸 | 500 mm（宽）x 920 mm（深）x 1501 mm（高） |
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